Нанотехнология және наножүйелердегі негізгі түсініктерді атаңыз


CVD әдісімен нанобөлшектерді алу



бет38/42
Дата15.11.2023
өлшемі2,92 Mb.
#123530
1   ...   34   35   36   37   38   39   40   41   42
55. CVD әдісімен нанобөлшектерді алу
Газ фазасынан бөлшектерді химиялық тұндыруы немесе Chemical vapor deposition (CVD) - өте берік материалдарды алуға қолданатын плазмохимиялық процесс. Бұл әдіспен көбінесе жартылай өткізгіштерді жасауда, жұқа қаптау алуға қолданады.Процесстің жүру механизмі: бастапқы зат газ,қатты немесе сұйық болуы мүмкін. Сұйық немесе қатты болса, арнайы реактор бөлімінде оны айдау және буландыру арқылы буға айналдырады. Алынған буды инертті немесе синтезде қатысуы мүмкін газ арқылы тасымалдайды.Салқын және қатты бетте тұнады.Конденсация нәтижесінде алынған заттарды тұндыру оңай емес, себебі олар ауырлық күшімен тұнбайды және броуындық қозғалыс жағдайында болады. Пайда болған бу инертті тасымалдағыш молекулаларымен соқтығып өзінің кинетикалық энергиясын жоғалтады. Әр түрлі өлшемдегі бөлшектердің синтезделуі үшін қысымды дұрыс таңдау керек. Реакция нәтижесінде қосымша газдар пайда болса, оларды реактордан вакуумды сору арқылы жояды.
Бұл әдіспен нанобөлшектерді алу жүйелі түрде мына металдар арқылы зерттелді- Zn, Cd, Se, As, Au. Зерттеу нәтижесінде 2 ден 100 нм өлшемді бөлшектер алынған. Инертті газдың оптималды қысым 40 - 400 Па арасында болған.
CVD әдісмен әрт түрлі құрылымды материалдарды алуға болады:

  • Монокристалл

  • Поликристалл

  • Аморфты денелер

  • Эпитаксия

Мыс: Кремний, көміртек нанотүтікшелері, кремний оксиді, вольфрам, кремний нитриді, титан нитриді


CVD Процесс жүретін қысым бойынша бөлінуі:
-CVD атомосфералық қысымда
-CVD төмен қысымда (төмен қысымда қосымша реакциялар азаяды және біртекті қабыршақ пайда болады )
-Вакуум CVD (өте төмен қысымда 10-6Па )
Физикалық шамалары бойынша процесстің жіктелуі:
-CVD аэрозоль қатысында (бұл жағдайда берілетін зат аэрозоль көмегімен тасымалданады)
-CVD тікелей сұйық ( берілетін зат сұйық фазада болады)
Плазмалықәдістер:
-CVD активтелген микротолқынды плазмалық әдіс
-Күштіленген плазма CVD (плазманы жылдамдықты жоғарылату үшін қолданады, төмен температурада жүреді)
Күштіленген жанама плазма CVD



Достарыңызбен бөлісу:
1   ...   34   35   36   37   38   39   40   41   42




©emirsaba.org 2024
әкімшілігінің қараңыз

    Басты бет