Нанотехнология және наножүйелердегі негізгі түсініктерді атаңыз


PVD – PHYSICAL VAPOUR DEPOSITION



бет39/42
Дата15.11.2023
өлшемі2,92 Mb.
#123530
1   ...   34   35   36   37   38   39   40   41   42
Байланысты:
Нанотехнология негіздері (4)

56. PVD – PHYSICAL VAPOUR DEPOSITION - Бу фазасынан физикалық тұндыру
Физикалық тұндыру кезінде (PVD) жылу энергиясының әсерінен булану нәтижесінде немесе материалдардың бөлшектерінің соқтығысуы кезіндегі кинетикалық энергия арқасында тозаңдану нәтижесінде жабынды материалы қатты фазадан бу фазаға ауысады .
PVD әдісімен жабынды қондыру 450 ̊С ге дейін жүргізіледі , бұл жабынды қондырылатын материалдарды қолдануда шектеулер тудырмайды . PVD процестерін вакуумда немесе төмен қысымда ( 10 -2 мбар) жұмысшы газдың атмосферасында жүргізеді . Бұл, бөлшектерді бастапқы жерден бұйымға атомдармен және газ молекулаларымен минималды соқтығыспен тасымалдауды қамтамасыз ету үшін қажет .
Физикалық тұндырудың көптеген нұсқалары бар : буландыру және тозаңдату процестерін қолдана отырып материалды қатты фазадан газтектес фазаға ауыстырудың әдісіне тәуелді .
Буландыру процесі келесі әдістермен жүзеге асуы мүмкін :
- резистивті қарсыласу
-индуктивті қыздыру
-электрлі сәулелі шоқтар
-төменвольтты доғалар
-жарты катодты
-катодты немесе анодты катод
-лазер сәулесі
Процесстер қосымша ионизацияменмен немесе ионизациясыз, реакциялық газ ортасында немесе онсыз, жылжыту кернеуіменне онсыз жүруі мүмкін. Тозаңдату диодты және магнетронды, ол тұрақты тоқта немесе жоғары жиіліктегі тоқта, реакциялық газ ортасында не онсыз, жылжыту кернеуімен не онсыз, магнитті өрсістің қосымша модификациясымен не онсыз болады.
Құрылғыға жабынды жабу үшін көп жағдайда ионды тұндырудың үш әдісінің біреуі қолданылады. Оларға :
1.электр шоғымен буландыру
2.электр доғасымен буландыру
3.ионды бомбардировкамен тозаңдату
Процесстер инертті газ ортасында реакционды газ қатысында , теріс жылжыту кернеуіде қапталатын материалда жүреді .
Бөлшектерді камерада ауыстыруды жақсарту үшін :
төменгі қысым ( 10-2 бардан төмен немесе 1 Па шамамсында )
немесе жоғары вакуум ( 10-5 барда немесе 10 -3 Па )
Міндетті шарт – жабындыны қондыру алдында материалды толықтай тазарту, бірнеше химиялық ортада өңдеу , аратұра ультрадыбысты өңдеу .
Электр шоғымен буландыруды қолданатын қондырғыларда жалынсыз доғаларлы катодқа жоғары кернеу жіберіледі ( 1-10 кВ ). Нәтижесінде металды материалмен қапталған нысанға бағытталған, фокусталған және жылдамдатылған электрондар шоғы (200А ) пайда болады. Нысана графиттен, керамикадан, мыстан жасалған, көлденең орналасқан қазанның ортасында орналасқан. Қазанға оң кернеу жіберілген. Қарама қарсы жатқан жабынғыш құрылғылы қойғышқа теріс кернеу жіберілген, ол жылжыту кернеуі кернеуі деп аталады. Буланған заттың оң иондары реакциялық газбен реакцияға түседі де, жабылатын құрылғыға барып тұнатын қыптама материалын түзеді. Қаптама камерасы қос қабырғалы тоттанбайтын болаттан жасалады, қыздыру және салқындату жүйелері бар.


Достарыңызбен бөлісу:
1   ...   34   35   36   37   38   39   40   41   42




©emirsaba.org 2024
әкімшілігінің қараңыз

    Басты бет