табл
. 44
Механизм процесса разделения
Вариант
хроматографии
Разная проницаемость молекул компонентов в неподвижную
фазу (высокопористый неионогенный гель)
Эксклюзионная
(молекулярно-ситовая)
Различная способность разделяемых компонентов выпадать
в осадок на твёрдой НФ
Осадочная
Образование водородных связей, химическое сродство
отдельных компонентов и т. д.
Хемосорбционная
Различная скорость движения заряжённых частиц
компонентов под воздействием внешнего напряжения
Электрохроматография
Варианты хроматографии по способу проведения процесса хроматогра-
фирования представлены в таблице 45.
Таблица
45
Варианты хроматографии по способу проведения процесса
Способ проведения
Вариант хроматографии
В цилиндрическом слое сорбента
Колоночная хроматография
В слое сорбента на плоской поверхности
Планарная хроматография
В плёнке жидкости или слое сорбента, размещённом
на внутренней стенке трубки
Капиллярная хроматография
В полях электрических, магнитных, центробежных
и других сил
Хроматография в полях сил
3.1. ВЫСОКОЭФФЕКТИВНАЯ ТОНКОСЛОЙНАЯ
ХРОМАТОГРАФИЯ
Метод высокоэффективной тонкослойной хроматографии (ВЭТСХ) в по-
следние годы активно внедряется в практику фармацевтического, фармакопей-
ного и фитохимического анализов и включён в ряд фармакопей (например,
начиная с Европейской фармакопеи Vol. 4, Американская фармакопея USP,
Американская травяная фармакопея и др.).
Достоинства метода:
1) наглядность;
2) экспрессность (широкий выбор растворителей, отсутствие влияния
предыдущей пробы);
3) экономичность (проходит анализ только нужного пятна);
4) требует малых объёмов проб;
5) универсальность;
290
291
6) документированность;
7) метод менее требователен к пробоподготовке;
8) параллельный анализ проб и стандартов в одинаковых условиях;
9) постадийность и гибкость анализа;
10) анализ сложных матриц;
11) мультидетектность (детектирование веществ идёт разными мето-
дами);
12) анализ по действию (изучение действия на бактерии).
Основные требования к нанесению пробы в методе ВЭТСХ:
1) точное позиционирование пятна или штриха;
2) однородность пятен и штрихов;
3) воспроизводимость объёма нанесения;
4) без повреждения слоя пластин;
5) отсутствие кросс-контаминации.
Оборудование ВЭТСХ (фирмы Camag, Швейцария) — мирового лидера
по производству оборудования для целей ВЭТСХ:
1) приборы для нанесения исследуемых экстрактов и растворов стандар-
тов на пластины: Linomat 5 (нанесение полуавтоматическое), Automatic TLC
Sampler ATS 4 (нанесение автоматическое);
2) элюирование: ADC-2 (автоматическая камера с контролем влажности),
AMD-2 (автоматическая камера с градиентом);
3) окрашивание (дериватизация): окрашивание методом иммерсии (по-
гружения): Chromatogram Immersion Device для иммерсии, прибор для окраши-
вания путём нагрева Plate Heater III;
4) оценка хроматограмм: визуальная оценка с УФ-кабинетом, классиче-
ская денситометрия с помощью TLC Scanner 4, документирование с помощью
Visualizer.
3.1.1. СОСТАВ КОМПЛЕКСА
ПО ВЫСОКОЭФФЕКТИВНОЙ
ТОНКОСЛОЙНОЙ ХРОМАТОГРАФИИ
В комплекс ВЭТСХ Camag (Швейцария) входят различные приборы
(табл. 46), служащие для проведения нескольких последовательных этапов про-
боподготовки, идентификации и количественного определения веществ для це-
лей скрининга (первичного) веществ в рамках исследований в области метабо-
ломики (идентификация метаболитов лекарств в биологических жидкостях че-
ловека и высших позвоночных животных, биохимических профилей биологи-
ческих жидкостей), фармация (контроль качества, однородность дозирования,
подлинность и чистота, тесты на стабильность, скрининг лекарств, допинг-
контроль), криминалистика (определение подлинности документов, токсиколо-
гия, анализ красителей), косметика (подлинность сырья, анализ консервантов,
красителей, скрининг на запрещённые вещества), продукты питания (контроль
качества, БАД, включая витамины, пестициды, тест на стабильность) и др.
291
292
Таблица
46
Комплекта
ция высокоэ
ф
ф
ектив
ной тонкос
л
ойной хро
м
атогра
ф
и
и Camag
(
Ш
ве
й
ц
ар
и
я)
для качественного и количественного определений
Наименование
этапа анализа
ВЭТСХ
Наименование
п
р
и
бо
р
н
ог
о
к
ом
п
л
ек
са
ВЭТСХ
Характеристика
п
р
и
бо
р
н
ог
о
к
ом
п
л
ек
са
ВЭТСХ
Коли
-
чество,
шт.
Характеристика
этапа анализа
ВЭТСХ
1
2
3
4
5
Нанесение
Аппликато
р для ру
чного
нанесения проб Cam
ag —
Nanom
at 4 и капиллярный
распылитель (диспенсер)
Сл
уж
ат для
нанесения
пятен на тонко
-
слойные пластины (20×20 см) и в
ысо
-
коэффективные тонкос
лойные
пластины (10×10 и 10×20 см)
1
Слу
ж
ит для нанесения пятен в руч
-
ном режиме при помощи предвари
-
тельно наполненного хроматогра
-
фического шприца пробой
Автосемплер-аппликатор
для полуавтоматического
нанесения проб
Ca
m
ag — Linom
at 5
Пол
уавтоматическое н
анесение пр
об
на тонкослойные и высокоэффек
-
тивные тонкослойные пластины
1
Слу
ж
ит для нанесения пятен в полу
-
автоматическом режиме при помо
-
щи предварительно наполненного
хроматографического шприца пробой
Автосемплер-аппликатор для
автоматического нанесения
проб Cam
ag — Automatic
TLC Sa
m
pl
er 4 (ATS 4)
Автоматич
еское нанесение проб н
а
тонкослойные и высокоэффективные
тонкослойные пластины
1
Растворы проб наносятся
автоматически при помощи
автосемплера-аппликатора
с точным дозированием пробы
Элюирование
Камеры для сат
урации
Ca
m
ag — Flat bottom
cham
ber
Камеры для предварительного насы
-
щения тонкослойных и высокоэффек
-
тивных тонкослойных пластин
парами элю
ента
2
Пластины помещаются в камеры
с насыщенными парами элюента
(растворителя)
Горизонтальные камеры
для сат
урац
ии Cam
ag —
Horizontal developing
cham
bers
Две камеры для предварительного
насыщения тонкослойных и высоко
-
эффективных тонкосл
ойных пластин
парами элю
ента для всех типов элюен
-
тов (растворителей) и тонкослойных
и высокоэффективных
тонкослойных
платин размерами 10×10 и 10×20 см
2
(боль
-
шая
и
малая
)
Пластины помещаются в гори
-
зонтальные камеры с н
асыщен
-
ными парами элюента
(растворителя)
Подставка
Ca
m
ag — Sm
artAlert
Подставка для мониторинга тонкослой
-
ной и высо
коэффективной тонкослой
-
ной пластины для горизонтальных
камер с цел
ью сату
рац
ии
2
Камеры с пластинами помещаются
на подставку в горизон
тальном
состоянии
292
293
Продолжение
табл
. 46
1
2
3
4
5
Р
езатель
Ca
m
ag — Sm
artcut plate cutter
1
Разрезание тонкослойных и высокоэф
-
фективных
тонкослойных пластин со
стеклянной подложкой
Камера для автоматического
элюирования Ca
m
ag —
Autom
atic developing
cham
ber 2 — ADC-2
с модулем контроля
влажности
Для изократического элюирования
Достарыңызбен бөлісу: |