“Аморфты материалдар” лекциялары курсы
Аморфты қабаттың жалынды разрядта орналасуы
жүктеу/скачать 5,58 Mb.
|
ÐмоÑÑ Ð¼Ð°ÑÐµÑ 15 даÑиÑ
| Аморфты қабаттың жалынды разрядта орналасуы.
Аморфты қабаттар газтәріздес заттың немесе газды қоспаның жалынды разрядта бөлшектенуі немесе жіктелуі арқылы алынуы плазмахимия әдісі деп аталады. Бұл әдіс көбінесе өндірсте қолданыс тапқан. Плазма – жоғары иондалған газ. Плазманың құрамы иондар мен электрондардың әртүрлі қозғалысымен анықталады. Плазмада электрондар температурасы иондар температурасынан қарағанда төрт есе жоғары болады. Жалын разряд кейбір бекітілген көлемде немесе трубкадағы газ ағыны төменгі қысым (~10 Па) кезінде, егер электродтарға жүздеген вольт кернеу берілсе пайда болады. Газдық фазадағы электрон және ион концентрциясы жалынды разрядта ~ 1010 см-3 құрайды. Электрон энергиясы 1-10 эВ, жуықтап 30-300 рет орташа термиялық ион энергиясынан артық. Электрондар жоғарғы қозғалысқа ие болғандықтан, көптеген химиялық байланыстар үзіледі, осыған орай химиялық реакциалар салыстырмалы аз температурада қозғалады. 3.4 суретте қондырғының эксперименттік сызбасы көрсетілген. 3.4.сурет. Аморфты материалдарды силан (SiH4) газының жалын разрядта бөлшектенуі арқылы орналастыру әдістері . (а) - индуктивтілік катушка және (б) - конденсатор көмегімен. 1 - индуктивті катушка, 2 –төсенішті ұстайтын термореттеуіш Көбінесе қуат 10-20 Вт өткізу аймағында және жиілігі 1-100 Гц аймағында жұмыс істейді. Орналастырылған қабаттардың құрамы мен құрылысы көп параметрлерге байланысты: төсеміштің температурасы, газ разрядты трубканың диаметрі. Осы жалынды разряд арқылы металдық қабаттарды ( Si және Рb-ді , Sn (C2H5)4, Рb(С2Н5)4) және органикалық полимердің тығыз аморфты қабатын алуға болады. Бұл әдіс аморфты қабаттарды орналастырғанда Si және Ge -дің SiH4 - GeH4 газдарында бөлшектену кезінде қолданылады. Алынған қабаттардың көп мөлшерін сутегі құрайды. Жалынды разряд синтезінде сәтті алынған аморфты қабат кремниіне сұраныс өсті. N2O қоспасы газ тәріздес SiH4 немесе О2 пен Si(OC2H5)4 жалынды разрядқа жұқа шыны тәріздес SiO2 қабатын береді. В(ОСН3)3 тен В2Оз , ал SiH4 және NH3 қоспасынан аморфты Si3N4 алынды. Электірлік шыдамдылығы жоғарғы аморфты Аl2Оз қабаты А12Сl6 және О2 қоспаларынан алынды. жүктеу/скачать 5,58 Mb. Достарыңызбен бөлісу:
|