ВЛИЯНИЕ ТЕРМИЧЕСКОЙ ОБРАБОТКИ И ЛАЗЕРНОГО ВОЗДЕЙСТВИЯ НА ПРОЦЕССЫ ОКИСЛЕНИЯ ПОВЕРХНОСТИ КРЕМНИЯ Т.С. Кошеров 1 , Г.И. Жанбекова 2 1
д.ф-м.н., профессор,
2
PhD
докторант
1
Казахская академия транспорта и коммуникации им М.Тынышпаева, г.Алматы, Казахстан
2
Казахский национальный педагогический университет имени Абая, г.Алматы, Казахстан
email:
gulnura08@list.ru
Исследовались процессы образования на поверхности пластины кремния ее оксидов при различных
температурах и времени отжига и последующем непрерывном воздействии лазерного луча. Лазерный
отжиг поверхностных слоев – один из наиболее результативных способов обработки таких материалов, как
.
Si Ведь примуществом таких способов обработки является возможностьпроведения отжига в
атмосферных условиях. Воздействие лазерного излучения на полупроводники может приводить к
различным изменениям их кристаллической структуры, электрофизических и оптических свойств
Установлены условия появления на поверхности образца ее оксидов. Непрерывное лазерное облучение
после термоотжига образца влияет на процессы окисления. Наблюдаемый рост
2
SiO c увеличением
времени температуры термоотжига, а также последующее лазерное облучение – следствие увеличения
скорости окисления, а ее увеличение связано с разложением
2
SiO и последующим испарением продуктов
ее размножения.