Н. Каразина С. В



бет24/50
Дата30.01.2022
өлшемі1,02 Mb.
#24552
1   ...   20   21   22   23   24   25   26   27   ...   50
Байланысты:
Физическая и коллоидная химия. Часть II. Коллоидная химия ( PDFDrive )

U U

отт Uпр

Beh



A , (9.2)

h2

где

Uотт

  • энергия отталкивания;

Uпр

  • энергия притяжения; B – мно-

житель, зависящий от значений электрических потенциалов ДЭС, свойств среды, температуры; e – основание натурального логарифма;  – вели- чина, обратная толщине диффузного слоя; h – расстояние между части- цами; A – константа молекулярных сил притяжения.

Значение

U1

соответствует потенциальному барьеру, препятст-



вующему сближению частиц. При его преодолении начинают преобладать силы притяжения и происходит слипание частиц. Часто на потенциальной кривой взаимодействия справа от максимума имеется неглубокий мини-

мум с

U2  0 . Это так называемый дальний минимум, соответствующий



слипанию коллоидных частиц через слой растворителя. При взаимодейст- вии частиц в дальнем минимуме в концентрированных дисперсных систе- мах с крупными частицами могут возникать надмолекулярные структуры, придающие золю гелеобразное состояние, и легко разрушаемые при встряхивании. При коагуляции в дальнем минимуме образуются рыхлые осадки, частицы в которых остаются обособленными, разделенными про- слойками растворителя. Такие осадки можно достаточно легко, восстано- вив потенциальный барьер, перевести обратно в золь.

Частицы дисперсной фазы обладают определенной кинетической энергией ( kT ), за счет которой они могут сближаться на то или другое расстояние. В зависимости от высоты энергетического барьера и глубины потенциальных ям возможны следующие варианты поведения частиц при сближении (рис. 9.3).



U1kT U1kT



в a б

Рис. 9.3. Схема взаимодействия коллоидных частиц: а – пере- крывание диффузных слоев; б – агрегативно устойчивая систе- ма; в – коагуляция.




  1. Высокий энергетический барьер ( U1

kT ) и отсутствие или не-

глубокий вторичный минимум ( U2kT ) (рис. 9.2) означают, что части- цы не могут преодолеть барьер и расходятся без взаимодействия. В этом случае система агрегативно устойчива (рис. 9.3, б).

  1. При малой высоте барьера и неглубоком вторичном минимуме, ко-

гда

U1  U2kT , броуновское движение может сблизить частицы до



таких малых расстояний, что они попадут в первую потенциальную яму, при этом частицы вступают в ближнее взаимодействие, то есть непосред- ственно соприкасаются, и происходит элементарный акт коагуляции (рис. 9.3, в).

  1. При умеренно глубоком вторичном минимуме ( U2

kT ) и нали-

чии заметного энергетического барьера [U1=(510) kT ] имеет место дальнее взаимодействие двух частиц, при котором частицы не могут ра- зойтись (их удерживают силы притяжения) и не могут приблизиться

вплотную, так как этому препятствуют силы отталкивания. При таких ус- ловиях образуются структурированные системы – гели, в которых, одна- ко, сохраняются прослойки среды между частицами. Образующиеся гели представляют собой периодические коллоидные структуры, имеющие квазикристаллическое строение.

Приведенные закономерности хорошо согласуются с поведением гидрофобных золей. Если частицы золя имеют высокий электрический потенциал и достаточной толщины диффузный слой, то при перекрыва- нии ДЭС двух частиц энергия электростатического отталкивания преоб- ладает над энергией межмолекулярного притяжения. Возникает энерге- тический барьер, препятствующий слипанию частиц. Сблизившиеся час- тицы вновь отдаляются друг от друга. Следовательно, система является агрегативно устойчивой (см. рис.9.3, б). Сжатие диффузного слоя, напри- мер при добавлении электролитов, приводит к тому, что расстояние h между твердыми частицами оказывается очень малым (см. рис. 9.3, а). На этом расстоянии энергия притяжения значительна и преобладает над энергией отталкивания. При таких условиях энергетический барьер очень мал и система агрегативно неустойчива, поэтому золь коагулирует (см. рис. 9.3, в).

Таким образом, из рассмотренных возможных случаев взаимодейст- вия частиц следует, что дисперсная система агрегативно устойчива толь- ко при высоком энергетическом барьере сил отталкивания. Поэтому все те факторы, которые снижают величину энергетического барьера U1,

неизбежно понижают агрегативную устойчивость коллоидной системы.

Согласно теории ДЛФО, при быстрой коагуляции коллоидных систем электролитами возможны два основных механизма коагуляции – концен- трационный и нейтрализационный:


    1. концентрационная коагуляция, при которой потеря устойчивости коллоидов вызывается сжатием диффузной части двойного электрическо- го слоя при неизменяющемся -потенциале поверхности;

    2. нейтрализационная коагуляция, происходящая в результате сни- жения по абсолютной величине заряда поверхности и, следовательно, электрического -потенциала поверхности частиц.

Тип коагуляции зависит как от свойств коллоида, так и от характера прибавляемых электролитов.

Концентрационная коагуляция наблюдается в золях с высоким

-потенциалом частиц при увеличении концентрации электролита, то есть ионной силы раствора. Этот механизм коагуляции осуществляется при действии индифферентных электролитов, не способных к специфиче- ской адсорбции. Добавление таких электролитов не изменяет величину - потенциала во внутренней обкладке двойного слоя. В этом случае коагу-

ляцию вызывают электростатический эффект сжатия двойного электри- ческого слоя и связанное с ним уменьшение  -потенциала. Действитель- но, приведенная толщина диффузной части ДЭС,  , равна



0RT 1/2





  2F 2I

, (9.3)

где F – число Фарадея,  – относительная диэлектрическая проницае-

мость дисперсионной среды (для воды при 25С  = 78), 0

  • диэлектри-

ческая проницаемость вакуума, равная 8.85410–12 Ф/м, I – ионная сила раствора, равная полусумме произведений концентраций ионов на квад- рат их заряда ( I = 0.5c z2 ). Сжатие диффузного слоя является следст-


Достарыңызбен бөлісу:
1   ...   20   21   22   23   24   25   26   27   ...   50




©emirsaba.org 2024
әкімшілігінің қараңыз

    Басты бет